韓國計劃到2031年制定39項(xiàng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國際標(biāo)準(zhǔn)

快訊 2024年11月18日 15:15 1 admin

　　韓國標(biāo)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)周一表示，計劃到2031年在半導(dǎo)體行業(yè)制定39項(xiàng)新的國際標(biāo)準(zhǔn)，以增強(qiáng)韓國在該領(lǐng)域的競爭優(yōu)勢。

　　韓國技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)院（KATS）在一個行業(yè)論壇上公布了這一路線圖，作為其更廣泛戰(zhàn)略的一部分，旨在早日在全球半導(dǎo)體市場取得領(lǐng)先地位。

　　該機(jī)構(gòu)的目標(biāo)是，到2027年，在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域制定15項(xiàng)以上的新國際標(biāo)準(zhǔn)，到2031年，將制定39項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)。

　　韓國技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)院院長Oh Kwang-hae表示：“我們將通過積極的國際標(biāo)準(zhǔn)化努力，支持學(xué)術(shù)界、產(chǎn)業(yè)界和研究界專家的努力，確保韓國在半導(dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)領(lǐng)先地位。”

標(biāo)簽：韓國國際標(biāo)準(zhǔn) 半導(dǎo)體